小编：Kuai技术在5月30日报告说，每个人都知道当前的高级过程（尤其是低于7 nm）基本上取决于ASML的EUV极端紫外线。
根据5月30日的Kuai技术，每个人都知道，当前的高级过程（尤其是低于7 nm）基本上取决于紫外线光刻机，ASML的极端。根据传统认可，没有EUV就没有先进的技术，所以还有其他方法吗？一段时间以前，世界上有5 nm的“特别”新闻。那是怎么发生的？据报道，这5 nm避免了对EUV光刻机器的依赖，它们使用完全不同的技术路线，佩戴步骤式光刻机器，实现了5 nm线的宽度，并带有多个展览。光刻机器是整个芯片制造过程中最中心的设备。它的主要功能是通过光学系统覆盖的硅晶片中的掩模上的电路模式投射一个电路图案，并在光子电阻中形成精细的图案，例如硅晶片中的dibuja电路图的“画家”。另外，蚀刻马赫INE使用具有精度原子水平的特定5 nm雕刻设备，声称雕刻速率比上一个水平高15％。一旦完成光刻完成，雕刻机的主要功能是Corroer，硅晶片的过多部分，例如不受光子保护的材料，留下了必要的部分以用半导体设备形成连接模式，如“雕刻”中。不仅如此，测量设备还使用新的电子束测量系统来实现NM水平缺陷检测替代。换句话说，这种“开发不同方法”的方法促进了整个工业链的发展，包括半导体设备，材料和设计工具。也许这种方法在将来相信3NM，因此可以拭目以待。 [本文的结尾]如果您需要重印，请务必向我们展示其来源：Kuai技术编辑：Chahui
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